قام العلماء في الجامعة القومية للبحوث النووية (NRNU MEPhI) بابتكار مولد بلازما، يقوم بتوليد تفريغ مغنيتروني نابض عالي الكثافة (high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge) في الأبخرة الناتجة عن المواد المنصهرة، حسب ما أعلنه المكتب الإعلامي للجامعة.

يتألف الجهاز من وحدة بلازما ومصدر طاقة، ويعمل في الحالات الخاصة للتفريغ المغنيتروني وبالتزامن مع عملية الترذيذ، يحدث تبخر عالي الكثافة للمادة المنصهرة والذي يشكل الطبقة الغلافية. حسب ما ذكر في المقالة التي نشرتها المجلة العلمية «Surface and Coatings Technology» ، فإن هذه التقنية الجديدة ستوفر إمكانية التغطية بالطبقات الرقيقة المطلوبة في مجالات التقنيات العالية بسرعة فائقة وبجودة عالية. تتجلى أهمية طريقة التغطية المغنيترونية (deposition by magnetron sputtering) كون استخدماتها واسعة جدا في أسواق تصنيع الطبقات الغلافية أو الطلاءات المعدنية أو العازلة للكهرباء بمجالات الصناعات الإلكترونية وفي صناعة التجهيزات الآلية والهندسة المعمارية وغيرها من المجالات.  وتعد طريقة التغطية المغنيترونية هي الوسيلة الوحيدة لترسيب طلاءات توفير الطاقة على زجاج المباني. بالإضافة لذلك، تستخدم هذه الطريقة لتلبيس معدات التقطيع بالطلاءات القاسية، كما يتم استخدام هذه الطريقة في مختلف مجالات التغطية الفنية — الزخرفية، (على سبيل المثال تلبيس قبب الكنائس بنيتريد التيتانيوم بدلا عن الذهب) وفي مجالات الإلكترونيات الدقيقة، فيتم استعمال هذه الطريقة في التلبيس المعدني للوحات الدوائر الإلكترونية المتكاملة، أما في مجال البصريات تظهر أهمية هذه الطريقة في تصنيع الفلاتر الضوئية (المرشحات الضوئية).